表面等離子體的研究方法

大氣射頻寬幅輝光等離子表面處理機(jī)

等離子清洗原理

     給氣態(tài)物質(zhì)更多的能量，比如加熱，將會(huì)形成等離子體。當(dāng)?shù)竭_(dá)等離子狀態(tài)時(shí)，氣態(tài)分子裂變成了許許多多的高度活躍的粒子。這些裂變不是永久的，一旦用于形成等離子體的能量消失，各類粒子重新結(jié)合，形成原來(lái)的氣體分子。與濕法清洗不同，等離子清洗的機(jī)理是依靠處于“等離子態(tài)”的物質(zhì)的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。從目前各類清洗方法來(lái)看，等離子體清洗也是所有清洗方法中最為徹底的剝離式的清洗方式。

    等離子清洗一般是利用激光、微波、電暈放電、熱電離、弧光放電等多種方式將氣體激發(fā)成等離子狀態(tài)。

本文編輯于http://www.kffpump.com