上海軒儀儀器設備有限公司經(jīng)銷各種等離子體清洗機，等離子體清洗機又叫等離子表面清洗機、等離子表面處理機、低溫等離子處理設備、常壓等離子處理機等。等離子清洗機能夠?qū)ξ矬w表面進行徹底的清洗和活化作用，從而起到想要的作用。等離子體清洗機目前被廣泛的應用于包裝、印刷、噴碼、電子、國防等行業(yè)。今天讓我們來看看等離子體清洗機的分類有哪些？

　　等離子體清洗機的分類可以按照激發(fā)頻率和反應類型來分類。

1、 按照激發(fā)頻率分類

　　常用的等離子體激發(fā)頻率有三種：

　　1）超聲等離子體：激發(fā)頻率為40kHz的等離子體

　　2）射頻等離子體：13.56MHz的等離子體

　　3）微波等離子體：2.45GHz的等離子體

　　不同等離子體產(chǎn)生的自偏壓不一樣。超聲等離子體的自偏壓為1000V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微波等離子體的自偏壓很低，只有幾十，而且三種等離子體的機制不同。超聲等離子體發(fā)生的反應為物理反應，射頻等離子體發(fā)生的反應既有物理反應又有化學反應，微波等離子體發(fā)生的反應為化學反應。超聲等離子體清洗對被清潔表面產(chǎn)生的影響最大，因而實際半導體生產(chǎn)應用中大多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。

　　注：

　　等離子態(tài)的密度和激發(fā)頻率有如下關(guān)系： 

　　nc=1.2425×108v2 

其中nc為等離子態(tài)密度（cm-3），v為激發(fā)頻率（Hz）。 

2、按照反應類型分類 

　　等離子體與固體表面發(fā)生反應可以分為物理反應（離子轟擊）和化學反應。物理反應機制是活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離表面最終被真空泵吸走；化學反應機制是各種活性的粒子和污染物反應生成易揮發(fā)性的物質(zhì)，再由真空泵吸走揮發(fā)性的物質(zhì)。 

　　以物理反應為主的等離子體清洗，也叫做濺射腐蝕（SPE）或離子銑（IM），其優(yōu)點在于本身不發(fā)生化學反應，清潔表面不會留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化學純凈性，腐蝕作用各向異性；缺點就是對表面產(chǎn)生了很大的損害，會產(chǎn)生很大的熱效應，對被清洗表面的各種不同物質(zhì)選擇性差，腐蝕速度較低。以化學反應為主的等離子體清洗的優(yōu)點是清洗速度較高、選擇性好、對清除有機污染物比較有效，缺點是會在表面產(chǎn)生氧化物。

　　和物理反應相比較，化學反應的缺點不易克服。并且兩種反應機制對表面微觀形貌造成的影響有顯著不同，物理反應能夠使表面在分子級范圍內(nèi)變得更加“粗糙”，從而改變表面的粘接特性。還有一種等離子體清洗是表面反應機制中物理反應和化學反應都起重要作用，即反應離子腐蝕或反應離子束腐蝕，兩種清洗可以互相促進，離子轟擊使被清洗表面產(chǎn)生損傷削弱其化學鍵或者形成原子態(tài)，容易吸收反應劑，離子碰撞使被清洗物加熱，使之更容易產(chǎn)生反應；其效果是既有較好的選擇性、清洗率、均勻性，又有較好的方向性。 

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